- Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы
-
Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы сокр., ПХО; ПХГФО иначе плазмохимическое газофазное осаждение; осаждение из паровой фазы стимулированное плазмой (англ. plasma-enhanced chemical vapor deposition) — процесс химического осаждения тонких пленок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы[1].
Описание
Технология плазмохимического осаждения использует газоразрядную плазму для разложения реакционного газа на активные радикалы. Применение различных приемов возбуждения плазмы в реакционном объёме и управление её параметрами позволяет интенсифицировать процессы роста покрытий, проводить осаждение аморфных и поликристаллических пленок при значительно более низких температурах подложки, делает более управляемыми процессы формирования заданного микрорельефа, структуры, примесного состава и других характеристик покрытия по сравнению с аналогичныхи процессами при химическом осаждении из газовой фазы (CVD), основанными на термическом разложении реакционного газа[1].
Примечания
- ↑ 1 2 Журавлева Наталья Геннадиевна, Наймушина Дарья Анатольевна. Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы, «Словарь нанотехнологичных терминов». РОСНАНО. Архивировано из первоисточника 1 ноября 2012. Проверено 21 августа 2012.
Литература
- НТЦ Нанотехнология, 2006. — www.nano.org.ua
- Передовые плазменные технологии // Intech, 2008. — www.plasmasystem.ru
На эту статью не ссылаются другие статьи Википедии. Пожалуйста, воспользуйтесь подсказкой и установите ссылки в соответствии с принятыми рекомендациями.Категория:- Тонкие плёнки
Wikimedia Foundation. 2010.