- Фоторезист
-
Фоторезист (от фото и англ. resist) — полимерный светочувствительный материал. Наносится на обрабатываемый материал в процессе фотолитографии или фотогравировки с целью получить соответствующее фотошаблону расположение окон для доступа травящих или иных веществ к поверхности обрабатываемого материала.
Экспонирование производится в ультрафиолетовом диапазоне спектра (фотолитография), электронным лучом (электронно-лучевая литография) или мягким рентгеновским излучением (рентгеновская литография). Воздействие либо разрушает полимер (позитивный фоторезист), или, наоборот, вызывает его полимеризацию и понижает его растворимость в специальном растворителе (негативный фоторезист). При последующей обработке происходит травление в «окнах», образованных засвеченными (позитивный фоторезист) или незасвеченными (негативный фоторезист) участками полимера.
Разрешающая способность фоторезиста определяется как максимальное количество минимальных элементов на единице длины (1мм). R=L/2l, где L — длина участка, мм; l — ширина элемента, мм. Разрешающая способность позитивного фоторезиста считается более высокой, что определило его более широкое использование.
Различают два основных типа фоторезистов, используемых при производстве печатных плат: Сухой пленочный фоторезист (СПФ) и аэрозольный «POSITIV». СПФ получил более широкое распространение в производстве, так как обеспечивает равномерный слой. Представляет собой 3-х слойный «бутерброд» — два слоя защитной пленки, между ними — слой фоторезиста. К обрабатываемому материалу приклеивается при помощи ламинатора. Одним из крупнейших производителей СПФ является компания DuPont (США). Выпуская СПФ под торговым названием Riston, в рулонах по 152 м.
Типичные фоторезисты
В качестве фоторезистов, чувствительных к видимому свету часто применяются:
- Позитивные — сульфо-эфиры ортонафтохинондиазида в качестве светочувствительного вещества и новолачные, феноло- или крезолоформальдегидные смолы в качестве пленкообразователя.
- Негативные — циклоолефиновые каучуки, использующие в качестве сшивающих агентов диазиды; слои поливинилового спирта с солями хромовых кислот или эфирами коричной кислоты; поливинилциннамат.
Для работы с дальним ультрафиолетом применяются:
- Позитивные — сенсибилизированные полиметакрилаты и арилсульфоэфиры, использующие фенольные смолы
- Негативные — галогенированные полистиролы, диазиды с феноло-формальдегидными смолами
Также используются фоторезисты с химическим усилением скрытого изображения, состоящие из светочувствительных ониевых солей и эфиров нафтоловых резольных смол, в которых происходят химические реакции под действием солей.
Для регистрации электронных, рентгеновских и ионных потоков используются:
- Позитивные — производные полиметакрилатов, полиалкиленкетонов и др.
- Негативные — полимеры производных метакрилата, бутадиена и др.
Литература
- Фотолитография и оптика, М. Берлин, 1974; Мазель Е. З., Пресс Ф. П., Планарная технология кремниевых приборов, М., 1974
- У. Моро. Микролитография. В 2-х ч. М., Мир, 1990.
- БСЭ, статья «Фоторезист»
- Валиев К. А., Раков А. А., Физические основы субмикронной литографии в микроэлектронике, M., 1984;
- Светочувствительные полимерные материалы, под ред. А. В. Ельцова, Л., 1985. Г. К. Селиванов.
Ссылки
- Изготовление печатной платы с помощью пленочного фоторезиста
- Изготовление ПП при помощи пленочного фоторезиста с заводским качеством на дому до 3 класса точности
- Изготовление ПП при помощи негативного фоторезиста.
- Способ сушки платы с нанесенным спреевым фоторезистом в домашних условиях
Категория:- Технологии электроники
Wikimedia Foundation. 2010.