- ion etching
- [ʹaıənʹetʃıŋ] физ.
ионное травление
Новый большой англо-русский словарь. 2001.
ion etching
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ion etching — ion etching, a method of eroding materials such as metals, glass, polymers, and body tissue, atom by atom, by bombarding them with high energy ions, in order to reveal their smallest structural features … Useful english dictionary
ion etching — joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion etching vok. Ionenätzen, n rus. ионное травление, n pranc. décapage ionique, m … Radioelektronikos terminų žodynas
ion-etching chamber — joninio ėsdinimo kamera statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion etching chamber vok. Ionenätzkammer, f rus. камера для ионного травления, f pranc. chambre pour décapage ionique, f … Radioelektronikos terminų žodynas
Deep reactive-ion etching — (DRIE) is a highly anisotropic etch process used to create deep penetration, steep sided holes and trenches in wafers, with aspect ratios of 20:1 or more. It was developed for microelectromechanical systems (MEMS), which require these features,… … Wikipedia
Reactive-ion etching — (RIE) is an etching technology used in microfabrication. It uses chemically reactive plasma to remove material deposited on wafers. The plasma is generated under low pressure (vacuum) by an electromagnetic field. High energy ions from the plasma… … Wikipedia
Reactive-ion etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Reactive Ion Etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Deep Reactive Ion Etching — Reaktives Ionentiefenätzen (engl. Deep Reactive Ion Etching, DRIE), eine Weiterentwicklung des reaktiven Ionenätzen (RIE), ist ein hoch anisotroper Trockenätzprozess für die Herstellung von Mikrostrukuren in Silicium mit Aspektverhältnissen (das… … Deutsch Wikipedia
reactive ion etching — reaktyvusis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etching; reactive ion milling vok. reaktives Ionenätzen, n rus. реактивное ионное травление, n pranc. décapage ionique réactif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
diode ion etching — dvielektrodis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. diode ion etching vok. Diodenätzen, n; Ionenstrahlätzen in einer Diodenätzanlage, n rus. двухэлектродное ионное травление, n pranc. décapage ionique à l… … Radioelektronikos terminų žodynas
high-frequency ion etching — aukštadažnis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. high frequency ion etching vok. Hochfrequenzionenätzen, n rus. высокочастотное ионное травление, n pranc. gravure ionique à haute fréquence, f … Radioelektronikos terminų žodynas
