sputtering chamber
1ion sputtering chamber — jonų dulkinimo kamera statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering chamber vok. Zerstäubungskammer, f rus. камера для ионного распыления, f pranc. chambre de pulvérisation ionique, f …
2Sputtering — is a process whereby atoms are ejected from a solid target material due to bombardment of the target by energetic ions. It is commonly used for thin film deposition, etching and analytical techniques (see below). Physics of sputtering Physical… …
3High Power Impulse Magnetron Sputtering — (HIPIMS, also known as High Impact Power Magnetron Sputtering and High Power Pulsed Magnetron Sputtering, HPPMS) is a method for physical vapor deposition of thin films which is based on magnetron sputter deposition. HIPIMS utilises extremely… …
4распылительная камера — — [Я.Н.Лугинский, М.С.Фези Жилинская, Ю.С.Кабиров. Англо русский словарь по электротехнике и электроэнергетике, Москва, 1999 г.] Тематики электротехника, основные понятия EN jet chambersputtering chamber …
5Zerstäubungskammer — jonų dulkinimo kamera statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering chamber vok. Zerstäubungskammer, f rus. камера для ионного распыления, f pranc. chambre de pulvérisation ionique, f …
6chambre de pulvérisation ionique — jonų dulkinimo kamera statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering chamber vok. Zerstäubungskammer, f rus. камера для ионного распыления, f pranc. chambre de pulvérisation ionique, f …
7jonų dulkinimo kamera — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering chamber vok. Zerstäubungskammer, f rus. камера для ионного распыления, f pranc. chambre de pulvérisation ionique, f …
8камера для ионного распыления — jonų dulkinimo kamera statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering chamber vok. Zerstäubungskammer, f rus. камера для ионного распыления, f pranc. chambre de pulvérisation ionique, f …
9Sputter deposition — is a physical vapor deposition (PVD) method of depositing thin films by sputtering, that is ejecting, material from a target, that is source, which then deposits onto a substrate, such as a silicon wafer. Resputtering is re emission of the… …
10Fusion power — The Sun is a natural fusion reactor. Fusion power is the power generated by nuclear fusion processes. In fusion reactions two light atomic nuclei fuse together to form a heavier nucleus (in contrast with fission power). In doing so they release a …
