phase vapeur
1phase vapeur — garų fazė statusas T sritis fizika atitikmenys: angl. vapor phase; vapour phase vok. dampfförmige Phase, f; Dampfphase, f rus. паровая фаза, f; парообразная фаза, f pranc. phase vapeur, f …
2Depot chimique en phase vapeur — Dépôt chimique en phase vapeur Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en… …
3Dépôt Chimique En Phase Vapeur — Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en phase vapeur 3 …
4Dépôt chimique en phase vapeur — Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en phase vapeur 3 …
5Épitaxie en phase vapeur aux organométalliques — L épitaxie en phase vapeur aux organométalliques (EPVOM) est une technique de croissance cristalline dans laquelle les éléments à déposer, sous forme d organométalliques ou d hydrures, sont amenés vers le substrat par un gaz vecteur. Cette… …
6Depot physique par phase vapeur — Dépôt physique par phase vapeur Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l anglais physical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces. Une autre méthode de Dépôt sous vide de films minces est le dépôt chimique en… …
7Dépôt Physique Par Phase Vapeur — Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l anglais physical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces. Une autre méthode de Dépôt sous vide de films minces est le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l… …
8Dépôt physique en phase vapeur — Dépôt physique par phase vapeur Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l anglais physical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces. Une autre méthode de Dépôt sous vide de films minces est le dépôt chimique en… …
9Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma — Equipement de PECVD. Le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (ou PECVD, pour Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition en anglais) est un procédé utilisé pour déposer des couches minces sur un substrat à partir d un état gazeux… …
10Dépôt physique par phase vapeur — Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l anglais physical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces. Une autre méthode de dépôt sous vide de films minces est le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l… …
