diazoverbindungen

  • 31Klaus Praefcke — (* 3. Januar 1933 in Ostseebad Wustrow/Fischland Mecklenburg) ist ein deutscher Chemiker. Sein Fachgebiet ist die Organische Chemie. Leben Klaus Praefcke wuchs im Ostseebad Kühlungsborn auf …

    Deutsch Wikipedia

  • 32Methyltrioxorhenium — Strukturformel Allgemeines Name Methyltrioxorhenium Andere Namen …

    Deutsch Wikipedia

  • 33Negativresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe …

    Deutsch Wikipedia

  • 34Nitren — Nitrengruppe Nitrene sind einfachbindige Stickstoffverbindungen mit einem Elektronensextet. Somit sind Nitrene Elektronenmangelverbindungen, wodurch sie eine hohe Reaktivität an den Tag legen. Sie reagieren ähnlich und sind auch elektronisch… …

    Deutsch Wikipedia

  • 35Nitrene — Nitrengruppe Nitrene sind einfachbindige Stickstoffverbindungen mit Elektronensextett. Sie sind hoch reaktive Elektronenmangelverbindungen und ähneln in Eigenschaften und Reaktionen den elektronisch ähnlich aufgebauten Carbenen.… …

    Deutsch Wikipedia

  • 36P-Toluolsulfonsäurechlorid — Strukturformel Allgemeines Name para Toluolsulfonsäurechlorid Andere N …

    Deutsch Wikipedia

  • 37Para-Toluolsulfonsäurechlorid — Strukturformel Allgemeines Name para Toluolsulfonsäurechlorid Andere N …

    Deutsch Wikipedia

  • 38Photolack — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe …

    Deutsch Wikipedia

  • 39Photoresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe …

    Deutsch Wikipedia

  • 40Positivresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe …

    Deutsch Wikipedia