Метод реплик (микроскопия)

У этого термина существуют и другие значения, см. Метод реплик.

Метод реплик — один из методов подготовки объекта к исследованию с использованием просвечивающего электронного микроскопа. Под репликой понимают прозрачную для электронов плёнку, структура которой воспроизводит структуру поверхности изучаемого объекта. Этот метод применяют:

• для изучения рельефа массивных объектов, непрозрачных для формирующих изображение электронов;
• для непроводящих образцов (исследование таких материалов в электронных микроскопах затруднено из-за накопления поверхностного заряда);
• для исследования структуры выделений, фиксируемых на реплике.

Одно из важнейших требований к реплике — она не должна обнаруживать собственной структуры. Для выявления деталей рельефа размером 30÷50 нм используются лаковые реплики. Углеродные плёнки, используемые для изучения рельефа и «захвата» отдельных частиц, можно получать конденсацией углерода в вакууме.

По толщине реплики разделяются на плёнки постоянной толщины и неоднородные по толщине. По способу приготовления можно выделить плёнки, полученные в один или несколько этапов. При многоэтапном способе приготовления на первом этапе получают матрицу, выполняя ряд процедур по подготовке поверхности исследуемого объекта, а потом получают реплику с данной матрицы.

Источники

• Большая советская энциклопедия
• С.С.Горелик, Л.Н. Расторгуев, Ю.А. Скаков. Рентгенографическиий электроннооптический анализ. Второе издание. Металлургия. — Москва, 1970.