РЕЗИСТЫ

РЕЗИСТЫ

органич. материалы, чувствительные к воздействию к.-л. излучения: оптич. (фоторезисты), рентгеновского (рентгенорезисты), потока электронов или ионов (электроно- или ионорезисты). Применяют в планарной технологии для формирования заданного рельефного рисунка на поверхности печатной формы и её защиты от воздействия травителей.


Естествознание. Энциклопедический словарь.

Игры ⚽ Нужно сделать НИР?

Смотреть что такое "РЕЗИСТЫ" в других словарях:

  • РЕЗИСТЫ — органические материалы, чувствительные к воздействию какого либо излучения: оптического (фоторезисты), рентгеновского (рентгенорезисты), потока электронов или иного (электроно или ионорезисты). Применяют в литографии для формирования заданного… …   Большой Энциклопедический словарь

  • резисты — органические материалы, чувствительные к воздействию какого либо излучения: оптического (фоторезисты), рентгеновского (рентгенорезисты), потока электронов или ионов (электроно или ионорезисты). Применяют в литографии для формирования заданного… …   Энциклопедический словарь

  • МИКРОЛИТОГРАФИЯ — формирование микрорисунков на поверхности твёрдого тела. M. лежит в основе технологии микроэлектроники. Обычно M. включает: нанесение на поверхность твёрдого тела (подложку) тонкого слоя фоторезиста (материала, чувствительного к воздействию… …   Физическая энциклопедия

  • РЕНТГЕНОВСКАЯ ЛИТОГРАФИЯ — метод микроэлектронной технологии, заключающийся в формировании с субмикронным разрешением защитной маски заданного профиля на поверхности подложки; осуществляется при помощи рентг. излучения длиной волны l 0,4 5 нм; один из методов… …   Физическая энциклопедия

  • травление в литографии — Термин травление в литографии Термин на английском Синонимы Аббревиатуры Связанные термины биомедицинские микроэлектромеханические системы, лаборатория на чипе, фоторезист Определение этап фотолитографического процесса, заключающийся в удалении… …   Энциклопедический словарь нанотехнологий

  • Травление в литографии — (англ. etching (development) in lithography)  этап фотолитографического процесса, заключающийся в удалении негативного фоторезиста с необлученных участков или позитивного фоторезиста с облученных участков подложки, покрытой тонкой… …   Википедия

  • ГОСТ Р 52250-2004 — 31 с. (5) Материалы электронной техники. Резисты для литографических процессов. Общие технические условия раздел 71.080.99 …   Указатель национальных стандартов 2013


Поделиться ссылкой на выделенное

Прямая ссылка:
Нажмите правой клавишей мыши и выберите «Копировать ссылку»