sputtering target

sputtering target
мишень (установки) ионного распыления

Англо-русский словарь технических терминов. 2005.

Игры ⚽ Поможем решить контрольную работу

Смотреть что такое "sputtering target" в других словарях:

  • ion sputtering target — dulkinamasis jonų taikinys statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering target vok. Zerstäubungskatode, f; Zerstäubungstarget, n rus. мишень для ионного распыления, f pranc. cible du réacteur de pulvérisation ionique, f …   Radioelektronikos terminų žodynas

  • Sputtering — is a process whereby atoms are ejected from a solid target material due to bombardment of the target by energetic ions. It is commonly used for thin film deposition, etching and analytical techniques (see below). Physics of sputtering Physical… …   Wikipedia

  • Sputtering — Pulvérisation cathodique La pulvérisation cathodique est une méthode de dépôt de couche mince. Sommaire 1 Principe 1.1 Synthèse de films céramiques 1.2 Instabilité électrique …   Wikipédia en Français

  • Pulvérisation cathodique (sputtering) — Pulvérisation cathodique La pulvérisation cathodique est une méthode de dépôt de couche mince. Sommaire 1 Principe 1.1 Synthèse de films céramiques 1.2 Instabilité électrique …   Wikipédia en Français

  • High Power Impulse Magnetron Sputtering — (HIPIMS, also known as High Impact Power Magnetron Sputtering and High Power Pulsed Magnetron Sputtering, HPPMS) is a method for physical vapor deposition of thin films which is based on magnetron sputter deposition. HIPIMS utilises extremely… …   Wikipedia

  • Sputter deposition — is a physical vapor deposition (PVD) method of depositing thin films by sputtering, that is ejecting, material from a target, that is source, which then deposits onto a substrate, such as a silicon wafer. Resputtering is re emission of the… …   Wikipedia

  • Zerstäubungskatode — dulkinamasis jonų taikinys statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering target vok. Zerstäubungskatode, f; Zerstäubungstarget, n rus. мишень для ионного распыления, f pranc. cible du réacteur de pulvérisation ionique, f …   Radioelektronikos terminų žodynas

  • Zerstäubungstarget — dulkinamasis jonų taikinys statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering target vok. Zerstäubungskatode, f; Zerstäubungstarget, n rus. мишень для ионного распыления, f pranc. cible du réacteur de pulvérisation ionique, f …   Radioelektronikos terminų žodynas

  • cible du réacteur de pulvérisation ionique — dulkinamasis jonų taikinys statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering target vok. Zerstäubungskatode, f; Zerstäubungstarget, n rus. мишень для ионного распыления, f pranc. cible du réacteur de pulvérisation ionique, f …   Radioelektronikos terminų žodynas

  • dulkinamasis jonų taikinys — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering target vok. Zerstäubungskatode, f; Zerstäubungstarget, n rus. мишень для ионного распыления, f pranc. cible du réacteur de pulvérisation ionique, f …   Radioelektronikos terminų žodynas

  • мишень для ионного распыления — dulkinamasis jonų taikinys statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering target vok. Zerstäubungskatode, f; Zerstäubungstarget, n rus. мишень для ионного распыления, f pranc. cible du réacteur de pulvérisation ionique, f …   Radioelektronikos terminų žodynas


Поделиться ссылкой на выделенное

Прямая ссылка:
Нажмите правой клавишей мыши и выберите «Копировать ссылку»