- sputtering target
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мишень (установки) ионного распыления
Англо-русский словарь технических терминов. 2005.
Англо-русский словарь технических терминов. 2005.
ion sputtering target — dulkinamasis jonų taikinys statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering target vok. Zerstäubungskatode, f; Zerstäubungstarget, n rus. мишень для ионного распыления, f pranc. cible du réacteur de pulvérisation ionique, f … Radioelektronikos terminų žodynas
Sputtering — is a process whereby atoms are ejected from a solid target material due to bombardment of the target by energetic ions. It is commonly used for thin film deposition, etching and analytical techniques (see below). Physics of sputtering Physical… … Wikipedia
Sputtering — Pulvérisation cathodique La pulvérisation cathodique est une méthode de dépôt de couche mince. Sommaire 1 Principe 1.1 Synthèse de films céramiques 1.2 Instabilité électrique … Wikipédia en Français
Pulvérisation cathodique (sputtering) — Pulvérisation cathodique La pulvérisation cathodique est une méthode de dépôt de couche mince. Sommaire 1 Principe 1.1 Synthèse de films céramiques 1.2 Instabilité électrique … Wikipédia en Français
High Power Impulse Magnetron Sputtering — (HIPIMS, also known as High Impact Power Magnetron Sputtering and High Power Pulsed Magnetron Sputtering, HPPMS) is a method for physical vapor deposition of thin films which is based on magnetron sputter deposition. HIPIMS utilises extremely… … Wikipedia
Sputter deposition — is a physical vapor deposition (PVD) method of depositing thin films by sputtering, that is ejecting, material from a target, that is source, which then deposits onto a substrate, such as a silicon wafer. Resputtering is re emission of the… … Wikipedia
Zerstäubungskatode — dulkinamasis jonų taikinys statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering target vok. Zerstäubungskatode, f; Zerstäubungstarget, n rus. мишень для ионного распыления, f pranc. cible du réacteur de pulvérisation ionique, f … Radioelektronikos terminų žodynas
Zerstäubungstarget — dulkinamasis jonų taikinys statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering target vok. Zerstäubungskatode, f; Zerstäubungstarget, n rus. мишень для ионного распыления, f pranc. cible du réacteur de pulvérisation ionique, f … Radioelektronikos terminų žodynas
cible du réacteur de pulvérisation ionique — dulkinamasis jonų taikinys statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering target vok. Zerstäubungskatode, f; Zerstäubungstarget, n rus. мишень для ионного распыления, f pranc. cible du réacteur de pulvérisation ionique, f … Radioelektronikos terminų žodynas
dulkinamasis jonų taikinys — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering target vok. Zerstäubungskatode, f; Zerstäubungstarget, n rus. мишень для ионного распыления, f pranc. cible du réacteur de pulvérisation ionique, f … Radioelektronikos terminų žodynas
мишень для ионного распыления — dulkinamasis jonų taikinys statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputtering target vok. Zerstäubungskatode, f; Zerstäubungstarget, n rus. мишень для ионного распыления, f pranc. cible du réacteur de pulvérisation ionique, f … Radioelektronikos terminų žodynas