- reactive ion
-
химически активный ион, ион химически активного вещества
Англо-русский словарь технических терминов. 2005.
reactive ion
Смотреть что такое "reactive ion" в других словарях:
Reactive-ion etching — (RIE) is an etching technology used in microfabrication. It uses chemically reactive plasma to remove material deposited on wafers. The plasma is generated under low pressure (vacuum) by an electromagnetic field. High energy ions from the plasma… … Wikipedia
Reactive-ion etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Reactive Ion Etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
reactive ion etching — reaktyvusis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etching; reactive ion milling vok. reaktives Ionenätzen, n rus. реактивное ионное травление, n pranc. décapage ionique réactif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive ion milling — reaktyvusis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etching; reactive ion milling vok. reaktives Ionenätzen, n rus. реактивное ионное травление, n pranc. décapage ionique réactif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive ion sputtering — reaktyvusis joninis dulkinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion sputtering vok. reaktives Sputtern, n rus. реактивное ионное распыление, n pranc. pulvérisation ionique réactive, f … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive-ion etch resistance — atsparumas reaktyviajam joniniam ėsdinimui statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etch resistance vok. Beständigkeit gegen reaktives Ionenätzen, f rus. стойкость к реактивному ионному травлению, f pranc. résistance au… … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive ion-beam etching — reaktyvusis jonpluoštis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion beam etching vok. reaktives Ionenstrahlätzen, n rus. реактивное ионно пучковое травление, n pranc. décapage par faisceau d ions réactifs, m … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive-ion beam — reaktyviųjų jonų pluoštas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion beam vok. reaktiver Ionenstahl, m rus. пучок химически активных ионов, m pranc. faisceau d ions réactifs, m … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive ion-beam oxidation — reaktyvusis jonpluoštis oksidavimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion beam oxidation vok. reaktive Ionenstrahloxydation, f rus. реактивное ионно пучковое оксидирование, n pranc. oxydation par faisceau d ions… … Radioelektronikos terminų žodynas
Deep reactive-ion etching — (DRIE) is a highly anisotropic etch process used to create deep penetration, steep sided holes and trenches in wafers, with aspect ratios of 20:1 or more. It was developed for microelectromechanical systems (MEMS), which require these features,… … Wikipedia
