- plasma (reactor )etching
-
плазменное травление
Англо-русский словарь технических терминов. 2005.
plasma (reactor )etching
Смотреть что такое "plasma (reactor )etching" в других словарях:
Plasma (physics) — For other uses, see Plasma. Plasma lamp, illustrating some of the more complex phenomena of a plasma, including filamentation. The colors are a result of relaxation of electrons in excited states to lower energy states after they have recombined… … Wikipedia
plasma-etching reactor — plazminis ėsdintuvas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. plasma etcher; plasma etching reactor vok. Plasmaätzer, m; Plasmaätzreaktor, m rus. реактор для плазменного травления, m; установка для плазменного травления, f pranc.… … Radioelektronikos terminų žodynas
plasma etcher — plazminis ėsdintuvas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. plasma etcher; plasma etching reactor vok. Plasmaätzer, m; Plasmaätzreaktor, m rus. реактор для плазменного травления, m; установка для плазменного травления, f pranc.… … Radioelektronikos terminų žodynas
Capacitively coupled plasma — A capacitively coupled plasma (CCP) is one of the most common types of industrial plasma sources. It essentially consists of two metal electrodes separated by a small distance, placed in a reactor. The gas pressure in the reactor can be lower… … Wikipedia
parallel-plate plasma-etching reactor — plazminis ėsdintuvas su lygiagrečiais elektrodais statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. parallel plate plasma etcher; parallel plate plasma etching reactor vok. Parallelelektroden Plasmaätzer, m rus. реактор с параллельными… … Radioelektronikos terminų žodynas
planar plasma-etching reactor — planarusis plazminis ėsdintuvas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. planar plasma etcher; planar plasma etching reactor vok. Planarplasmaätzer, m rus. планарный реактор для плазменного травления, m pranc. réacteur planaire pour… … Radioelektronikos terminų žodynas
barrel-reactor plasma etching — plazminis ėsdinimas cilindriniame reaktoriuje statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. barrel reactor plasma etching vok. Plasmaätzen im Trommelreaktor, n rus. плазменное травление в цилиндрическом реакторе, n pranc. décapage par… … Radioelektronikos terminų žodynas
radial-flow plasma-etching reactor — spinduliškas dujasrautis plazminis ėsdintuvas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. radial flow plasma etching reactor vok. Plasmaätzer mit radialem Strom, m rus. реактор плазменного травления с радиальным потоком, m pranc.… … Radioelektronikos terminų žodynas
Inductively coupled plasma — An inductively coupled plasma (ICP) is a type of plasma source in which the energy is supplied by electrical currents which are produced by electromagnetic induction, that is, by time varying magnetic fields. [A. Montaser and D. W. Golightly, eds … Wikipedia
machine à décaper par plasma à plaques parallèles — plazminis ėsdintuvas su lygiagrečiais elektrodais statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. parallel plate plasma etcher; parallel plate plasma etching reactor vok. Parallelelektroden Plasmaätzer, m rus. реактор с параллельными… … Radioelektronikos terminų žodynas
parallel-plate plasma etcher — plazminis ėsdintuvas su lygiagrečiais elektrodais statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. parallel plate plasma etcher; parallel plate plasma etching reactor vok. Parallelelektroden Plasmaätzer, m rus. реактор с параллельными… … Radioelektronikos terminų žodynas
