plasma deposition
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Plasma-enhanced chemical vapor deposition — PECVD machine at LAAS technological facility in Toulouse, France. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a process used to deposit thin films from a gas state (vapor) to a solid state on a substrate. Chemical reactions are involved… … Wikipedia
Plasma processing — is a plasma based material processing technology that aims at modifying the chemical and physical properties of a surface.Plasma processing techniques include: *Plasma activation *Plasma modification *Plasma functionalization *Plasma… … Wikipedia
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition — Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition, PECVD or sometimes PCVD, is the process by which chemicals are deposited onto a substrate using a Radio Frequency (RF) Plasma to split the precursors into active ions.TheoryPrecursor chemical enter the… … Wikipedia
Plasma nitriding — or ion nitriding (sometimes also called plasma ion nitriding) or glow discharge nitriding, is an industrial surface hardening treatment for metallic materials.DescriptionA plasma is the fourth state of matter, the other three being solid, liquid… … Wikipedia
Plasma-immersion ion implantation — (PIII) [cite book | title = Materials Science of Thin Films | author = Milton Ohring | publisher = Academic Press | year = 2002 | isbn = 0125249756 | url = http://books.google.com/books?id=SOt yFjV xwC pg=PA267… … Wikipedia
Plasma Spray — Plasma spraying, a method of thermal spraying, is a materials processing technique for producing coatings and free standing parts using a plasma jet. Deposits having thickness from micrometers to several millimeters can be produced from a variety … Wikipedia
Plasma (physics) — For other uses, see Plasma. Plasma lamp, illustrating some of the more complex phenomena of a plasma, including filamentation. The colors are a result of relaxation of electrons in excited states to lower energy states after they have recombined… … Wikipedia
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
Plasma enhanced chemical vapour deposition — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
Plasma Immersions Ionenimplantation — Bei der Plasma Immersions Ionenimplantation handelt es sich um ein Vakuumverfahren zur meist großflächigen Implantation von Ionen in Festkörperoberflächen. Es ist daher eng verwandt mit der Ionenimplantation. Das wesentlichste Merkmal ist das… … Deutsch Wikipedia
Plasma-Immersions-Ionenimplantation — Bei der Plasma Immersions Ionenimplantation handelt es sich um ein Vakuumverfahren zur meist großflächigen Implantation von Ionen in Festkörperoberflächen. Es ist daher eng verwandt mit der Ionenimplantation. Das wesentlichste Merkmal ist das… … Deutsch Wikipedia
