- magnetron sputtering source
- магнетронный распылительный источник
Большой англо-русский и русско-английский словарь. 2001.
magnetron sputtering source
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Sputtering — is a process whereby atoms are ejected from a solid target material due to bombardment of the target by energetic ions. It is commonly used for thin film deposition, etching and analytical techniques (see below). Physics of sputtering Physical… … Wikipedia
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Sputter deposition — is a physical vapor deposition (PVD) method of depositing thin films by sputtering, that is ejecting, material from a target, that is source, which then deposits onto a substrate, such as a silicon wafer. Resputtering is re emission of the… … Wikipedia
Pulvérisation cathodique — Pour les articles homonymes, voir Pulvérisation. La pulvérisation cathodique (ou sputtering) est une méthode de dépôt de couche mince. Il s agit d une technique qui autorise la synthèse de plusieurs matériaux à partir de la condensation d’une… … Wikipédia en Français
Self-cleaning glass — is a specific type of glass with surface which keeps itself free of dirt and grime through natural processes.The first self cleaning glass was based on thin film titanium dioxide coating. The glass cleans itself in two stages. The photocatalytic… … Wikipedia
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mass spectrometry — or mass spectroscopy Analytic technique by which chemical substances are identified by sorting gaseous ions by mass using electric and magnetic fields. A mass spectrometer uses electrical means to detect the sorted ions, while a mass spectrograph … Universalium
Pulsed laser deposition — (PLD) is a thin film deposition (specifically a physical vapor deposition, PVD) technique where a high power pulsed laser beam is focused inside a vacuum chamber to strike a target of the desired composition. Material is then vaporized from the… … Wikipedia
