次微米计画

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cì wéi mǐ jì huà

次微米指小于一微米的半导体制作技术。 民国七十九年， 政府为建立完整之半导体产业， 期盼能引导产业进入次微米时代。 乃由经济部委托工研院电子所主导， 并拨列经费以规划筹建次微米实验室， 做为驱动我国IC技术跨入次微米新纪元的前哨。 七十九年七月， 次微米计画研发工作正式展开， 为期五年（西元一九九○至一九九五年）。 整体计画目标如下：(1) 建立一座八吋晶圆， Class 0.1 (0.3微米）的世界一流水准的实验室， 以提供开发次微米制程技术。 (2) 在一九九五年以前使中华民国具备：a. 0.7/0.5微米整合制程技术。 b. 0.35 微米制程模组技术。 (3) 建立超洁净技术及八吋晶圆量产型技术。 (4) 建立中华民国极大型积体电路（ULSI）研究发展能力， 并对世界IC研究发展的领域有所贡献。