cvd

  • 41Crystallographic defects in diamond — Synthetic diamonds of various colors grown by the high pressure high temperature technique, the diamond size is 2 mm …

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  • 42Chemical vapor deposition of ruthenium — is a method to deposit thin layers of ruthenium on substrate by Chemical vapor deposition (CVD). A unique challenge arises in trying to grow impurity free films of a catalyst in Chemical vapor deposition (CVD). Ruthenium metal activates C H and C …

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  • 43Chemical vapor deposition of diamond — Colorless gem cut from diamond grown by chemical vapor deposition Chemical vapor deposition of diamond or CVD is a method of producing synthetic diamond by creating the circumstances necessary for carbon atoms in a gas to settle on a substrate in …

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  • 44Dünnschicht-Technologie — Bei der Dünnschichttechnologie werden Materialien (dünne Schichten üblicherweise unter 1 µm) durch verschiedene Verfahren auf das Substrat aufgebracht, um anschließend bearbeitet bzw. strukturiert zu werden. Die Abscheidung der Schichten erfolgt… …

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  • 45Dünnschichttechnik — Bei der Dünnschichttechnologie werden Materialien (dünne Schichten üblicherweise unter 1 µm) durch verschiedene Verfahren auf das Substrat aufgebracht, um anschließend bearbeitet bzw. strukturiert zu werden. Die Abscheidung der Schichten erfolgt… …

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  • 46Dünnschichttechnologie — Die Dünnschichttechnologie, auch Dünnschichttechnik genannt, beschäftigt sich mit der Herstellung und Bearbeitung von dünnen Schichten unterschiedlicher Materialien, wie metallische, dielektrische und halbleitende Werkstoffe. Die Dicke solcher… …

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  • 47Nanotubo — Nanotubos de carbono. Representación de l …

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  • 48Ruthenium — (pronEng|ruːˈθiːniəm) is a chemical element that has the symbol Ru and atomic number 44. A rare transition metal of the platinum group of the periodic table, ruthenium is found associated with platinum ores and used as a catalyst in some platinum …

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  • 49LOCOS — LOCOS, short for LOCal Oxidation of Silicon, is a microfabrication process where silicon dioxide is formed in selected areas on a silicon wafer having the Si SiO2 interface at a lower point than the rest of the silicon surface.This technology was …

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  • 50Occupational health psychology — Psychology …

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