Катодное распыление это:

Катодное распыление
        ионное распыление, разрушение отрицательного электрода (катода) в газовом разряде под действием ударов положительных ионов. В более широком смысле — разрушение твёрдого вещества при его бомбардировке заряженными или нейтральными частицами.
         К. р., с одной стороны, нежелательное явление, уменьшающее срок службы электровакуумных приборов (См. Электровакуумные приборы); с др. стороны, К. р. имеет практическое применение для очистки поверхностей, выявления структуры вещества (ионное травление), нанесения тонких плёнок, для получения направленных молекулярных пучков (См. Молекулярные и атомные пучки) и т.д. Бомбардирующие ионы, проникая в глубь мишени, вызывают смещение её атомов. Эти смещенные атомы, в свою очередь, могут вызывать новые смещения и т.д. Часть атомов при этом достигает поверхности вещества и выходит за её пределы. При определённых условиях частицы могут покидать поверхность мишени в виде ионов (см. Ионная эмиссия). В монокристаллах наиболее благоприятные условия для выхода частиц складываются в направлениях, где плотность упаковки атомов наибольшая. В этих направлениях образуются цепочки соударений (фокусоны), с помощью которых энергия и импульс смещенных частиц передаются с наименьшими потерями. Существенную роль при К. р. играет процесс каналирования ионов, определяющий глубину их проникновения в мишень (см. Каналирование заряженных частиц).
         К. р. наблюдается при энергии ионов E выше некоторой величины E0, называемым порогом К. р. Значения E0 для различных элементов колеблются от единиц до нескольких десятков эв. Количественно К. р. характеризуется коэффициентом распыления S, равным числу атомов, выбитых одним ионом. Вблизи порога S очень мало (10–5 атомов/ион), а при оптимальных условиях S достигает нескольких десятков. Величина S не зависит от давления газа при малых давлениях р < 13,3 н/м2 (0,1 мм рт. ст.), но при р > 13,3 н/м2 (0,1 мм рт. см.) происходит уменьшение S за счёт увеличения числа частиц, осаждающихся обратно на поверхность. На величину S влияют как свойства бомбардирующих ионов — их энергия Ei (рис. 1), масса Mi (рис. 2), угол падения ее на мишень (рис. 3), так и свойства распыляемого вещества — чистота поверхности, температура, кристаллическая структура, масса атомов мишени.
         Угловое распределение частиц, вылетающих с распыляемой поверхности, анизотропно. Оно зависит от энергии ионов, а для монокристаллов также от типа кристаллической решётки и строения распыляемой грани. Осадок из распыляемого вещества, образующийся на экране, имеет вид отдельных пятен, причём симметрия картины осадка та же, что и симметрии распыляемой грани и образовавшихся на ней в результате К. р. фигур травления (рис. 4). Энергии распылённых частиц колеблются от нескольких долей эв до величин порядка энергии первичных ионов. Средние энергии распыляемых частиц составляют обычно десятки эв и зависят от свойств материала мишени и характеристик ионного пучка.
         Лит.: Моргулис Н. Д., Катодное распыление, «Успехи физических наук», 1946, т. 28, в. 2—3, с. 202; Плешивцев Н. В., Катодное распыление, М., 1968; Каминский М., Атомные и ионные столкновения на поверхности металла, пер. с англ., М., 1967; Томпсон М., Дефекты и радиационные повреждения в металлах, пер. с англ., М., 1971.
         В. Е. Юрасова.
        
        Рис. 1. Зависимость коэффициента распыления S медной мишени от энергии Е бомбардирующих ионов.
        
        Рис. 2. Зависимость коэффициента распыления S от массы бомбардирующих ионов Mi (Еi = 400 эв).
        
        Рис. 3. Зависимость S от угла падения α ионов, бомбардирующих поверхность Cu, Ta, Fe, Pt (цифры указывают энергию ионов).
        Pис. 4. Вверху — осадок, образующийся на прозрачном экране, расположенном параллельно распыляемой грани монокристалла Сu [а — грани (100), б — грани (110), в — грани (111)], внизу — углубления, возникающие при этом на поверхностях граней.
        Pис. 4. Вверху — осадок, образующийся на прозрачном экране, расположенном параллельно распыляемой грани монокристалла Сu [а — грани (100), б — грани (110), в — грани (111)], внизу — углубления, возникающие при этом на поверхностях граней.

Большая советская энциклопедия. — М.: Советская энциклопедия. 1969—1978.

Смотреть что такое "Катодное распыление" в других словарях:

  • КАТОДНОЕ РАСПЫЛЕНИЕ — разрушение тв. тел при бомбардировке их поверхности атомами, нонами и нейтронами (впервые наблюдалось как разрушение катода в газовом разряде). Продукты распыления атомы, положит. и отрицат. ионы, а также нейтр. и ионизиров. ат. комплексы… …   Физическая энциклопедия

  • КАТОДНОЕ РАСПЫЛЕНИЕ — распыление материала (см.) при газовом разряде вследствие бомбардировки катода положительными ионами. В газоразрядных приборах К. р. вредное явление. Осаждение металлов посредством К. р. применяется для нанесения весьма тонких (доли микрометра)… …   Большая политехническая энциклопедия

  • КАТОДНОЕ РАСПЫЛЕНИЕ — разрушение поверхности твердого тела при бомбардировке ее ионами. Первоначально наблюдалось как разрушение катодов в электровакуумных и газоразрядных приборах. Используется для очистки поверхностей …   Большой Энциклопедический словарь

  • катодное распыление — Получение покрытия распылением материала катода при газовом разряде. [ГОСТ 9.008 82] Тематики покрытия металл. и неметалл. EN cathode sputtering DE Kathodenzerstäubung FR pulvérisation cathodique …   Справочник технического переводчика

  • катодное распыление — katodinis dulkinimas statusas T sritis fizika atitikmenys: angl. cathode disintegration; cathode sputtering; cathodic sputtering vok. Katodenzerstäubung, f rus. катодное распыление, n; распыление катода, n pranc. désagrégation de cathode, f;… …   Fizikos terminų žodynas

  • катодное распыление — разрушение поверхности твердого тела при бомбардировке её ионами. Первоначально наблюдалось как разрушение катодов в электровакуумных и газоразрядных приборах. Используется для очистки поверхностей. * * * КАТОДНОЕ РАСПЫЛЕНИЕ КАТОДНОЕ РАСПЫЛЕНИЕ,… …   Энциклопедический словарь

  • катодное распыление — katodinis dulkinimas statusas T sritis chemija apibrėžtis Katodo dispergavimas elektros lanke. atitikmenys: angl. cathode sputtering rus. катодное распыление …   Chemijos terminų aiškinamasis žodynas

  • КАТОДНОЕ РАСПЫЛЕНИЕ — распыление в ва с поверхности твёрдого тела при бомбардировке его ионами. Первоначально наблюдалось как разрушение катодов в электровакуумных и газоразрядных приборах. Используется для очистки поверхностей и выявления структуры в ва (ионное… …   Большой энциклопедический политехнический словарь

  • катодное распыление — [cathodic sputtering] получение тонкой пленки покрытия распылением материала катода при газовом разряде; Смотри также: Распыление центробежное распыление распыление газом распыление водой …   Энциклопедический словарь по металлургии

  • катодное распыление — Разрушение поверхностного слоя катода при электрическом разряде вследствие ударов положительных ионов о катод …   Политехнический терминологический толковый словарь

Книги

Другие книги по запросу «Катодное распыление» >>


Поделиться ссылкой на выделенное

Прямая ссылка:
Нажмите правой клавишей мыши и выберите «Копировать ссылку»